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微弧氧化膜層是怎么形成的?
發(fā)布時(shí)間:2022-08-01 15:53:54| 瀏覽次數(shù):

  微弧氧化是一項(xiàng)新技術(shù),其作用相信很多人都清楚,這就不一一介紹了,下面為大家說(shuō)一下微弧氧化膜層是怎么形成的。


  首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生一層陽(yáng)極氧化膜。


  當(dāng)反應(yīng)電壓增加時(shí),膜厚度會(huì)進(jìn)一步增加,電壓會(huì)繼續(xù)增加,厚度會(huì)相應(yīng)增加。


  但當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí),膜層會(huì)因無(wú)法承受工作電壓而放電和擊穿,產(chǎn)生等離子體放電。


  反應(yīng)的高溫會(huì)熔化膜層,氧化物會(huì)在富氧環(huán)境中形成。同時(shí),因?yàn)樗陔娊赓|(zhì)中,熔融物瞬間冷凝,在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。


  陶瓷膜的產(chǎn)生會(huì)導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高,膜層再次被擊穿,膜層厚度進(jìn)一步增加,膜層反復(fù)生長(zhǎng)。


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